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yobo体育app:卡尔蔡司公司高级系统总工程师Tilmann Heil学术报告会

发布时间:2012-05-02 
卡尔蔡司公司高级系统总工程师Tilmann Heil学术报告会 

 

     4月25日上午在复旦大学恒隆物理楼138会议室,来自德国卡尔蔡司公司的高级系统总工程师Tilmann Heil为广大师生作题为“芯片制造中的纳米光刻技术”学术报告。yobo体育app光科系的徐敏教授主持本次报告会,来自光科系、yobo体育app以及其它院系的40余名师生出席本次报告会,徐敏教授致欢迎辞并介绍Tilmann Heil总工程师从事的研究工作。


    Tilmann Heil 总工程师详细地介绍蔡司公司的情况和半导体行业的最新进展,探讨十年之后摩尔定律是否继续适用以及其中的科学问题。Tilmann Heil总工程师总结了近几十年来光刻技术发展的规律,指出极紫外(EUV)光刻技术是未来十年的主流光刻技术,分析纳米光刻技术对光学系统设计提出的重要挑战,特别是当纳米光刻技术制造的半导体器件尺寸降低到11纳米时,用于实现纳米光刻的极紫外(EUV)光学系统极其重要。在报告中,Tilmann Heil总工程师指出未来的纳光刻技术还有望突破衍射极限发展到8nm左右。


    Tilmann Heil总工程师的报告通过大量的数据和精美的图表,深入浅出地将微纳光刻技术问题讲解得生动有趣,让广大师生不仅了解该方向最前沿的科研动态,也为与会科研人员提供了新的科研思路。Tilmann Heil总工程师还回答师生提出许多问题。

     本次会议会场气氛活跃,持续将近两个小时,最后在师生们热烈的掌声中圆满结束。

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